ИПФ РАН разрабатывает отечественный EUV-литограф, который позволяет получать разрешение до 7нм. Пока что разработчики ставят перед собой в качестве ориентира условные нормы 28нм. Разработка займет еще несколько лет. Числовая апертура будет скромнее - 0,25, что снижает разрешение, но позволяет упростить конструкцию. Вместо очень сложного источника излучения на основе оловянных капель-плюшек будет применяться источник на основе ксенона 11,24 нм, что увеличит разрешение, почти полностью компенсируя недостаточно высокую числовую апертуру.